针对铜极易被含 Cl- 溶剂腐蚀的问题,以 NaOH 和( NH4 )2S2O8 的混合水溶液为氧化剂、十七氟癸基三甲氧基硅烷 ( FAS-17) 为低表面能改性剂,在铜表面制备得到超疏水涂层。利用 X 射线衍射 ( XRD) 、扫描电子显微镜 ( SEM) 、X 射线光电子能谱( XPS) 对涂层表面的结构、形貌及组成进行了表征,通过 Tafel 极化曲线和 EIS 谱图分析了样品在 3. 5% ( 质量分数,下同) NaCl 溶液中的防腐蚀特性。结果表明: 浸渍10 min 的铜表面生长出了致密均匀的 CuO 纳米线结构; 化学改性后表面的水接触角( CA) 大于 160°,滚动角 ( SA) 小于 3°。相比裸铜基板,生长有超疏水 CuO 纳米线结构的表面表现出较低的腐蚀电流密度 ( Icorr= 3. 285 × 10-6 A/cm2 ) ,抑制腐蚀的效率达到 99. 65% ,而且在 3. 5% NaCl 溶液中浸泡 6 d 仍保持超疏水性。与当前使用缓蚀剂抑制铜腐蚀的方法相比,文中方法更加环保且廉价。