华南理工大学学报(自然科学版) ›› 2010, Vol. 38 ›› Issue (1): 14-17,43.doi: 10.3969/j.issn.1000-565X.2010.01.003
姚若河 欧秀平
Yao Ruo-he Ou Xiu-ping
摘要: 对低掺杂多晶硅薄膜晶体管的表面势进行分析,将表面势开始偏离亚阈值区、沟道电流迅速增加时所对应的栅压作为晶体管的阂值电压.考虑到多晶硅薄膜的陷阱态密度为单指数分布,通过对低掺杂多晶硅薄膜晶体管的表面势进行求解,推导出一个多晶硅薄膜晶体管阈值电压解析模型,并采用数值仿真方法对模型进行了验证.结果表明:新模型所得到的阈值电压与采用二次导数法提取的阈值电压相吻合.