华南理工大学学报(自然科学版) ›› 2012, Vol. 40 ›› Issue (3): 64-68,125.
严炳辉1 李斌1† 姚若河1 吴为敬2
Yan Bing-hui1 Li Bin1 Yao Ruo-he1 Wu Wei-jing2
摘要: 基于表面势的多晶硅薄膜晶体管( poly-Si TFT) 漏电流模型无法体现晶界的离散分布特性,而基于阈值电压模型的各工作分区电流表达式存在不连续性. 为克服此缺点,根据基于表面势模型的建模思想,考虑晶界势垒在沟道中离散分布的特点,提出了多晶硅薄膜晶体管的直流漏电流模型. 该模型采用单一的解析方程描述多晶硅TFT 各工作区的电流. 研究结果表明: TFT 工作于线性区且栅压一定时,随着漏压的增大,沟道有效迁移率降低; 随着栅压的增大或沟道的缩短,漏电压对沟道有效迁移率的影响减弱.