利用背面Ar+轰击改善n—MOSFET饱和区特性
陈平 黄美浅 李旭 李观启
Improvement of Characteristics in the Saturation Region of n-MOSFET Using Backsurface Ar Bombardment
Chen Ping Huang Mei-qian Li Xu Li Guan-qi
华南理工大学学报(自然科学版) . 2005, (2): 70 -74 .